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上海添時科學儀器有限公司

PRODUCT DISPLAY

當前位置:上海添時科學儀器有限公司>>制膜設備>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

雙靶磁控濺射儀

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號:VTC-600-2HD-1000

品       牌:其他品牌

廠商性質:代理商

所  在  地:上海市

更新時間:2025-03-13 10:25:29瀏覽次數(shù):5401次

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
應用領域 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,道路/軌道/船舶
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,
    雙靶磁控濺射儀主要特點:

    1、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。

    2、可制備多種薄膜,應用廣泛。

    3、體積小,操作簡便。

    技術參數(shù):

產(chǎn)品名稱 VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號 VTC-600-1HD
安裝條件 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風裝置:需要
主要參數(shù) 1、輸入電源:220V/50Hz
2、濺射靶數(shù)量:2
3、靶槍冷卻方式:水冷
4、極限真空度:7.4E-5pa
5、真空室規(guī)格:Φ300×330 mm
6、真空系統(tǒng):VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵
7、恢復真空:系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min(系統(tǒng)短時間暴露大氣)
8、充氣系統(tǒng):2路質量流量計(1路氬氣100scc、2路氬氣200scc)特殊氣體可定制
9、濺射靶規(guī)格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
10、樣品臺:Φ140mm/可旋轉(1~20rpm)/可加熱(室溫~1000℃)
產(chǎn)品規(guī)格 主機尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm

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